PTL系列大气辉光宽幅等离子的特点

     1、在大气压状态下产生宽幅、均匀的等离子体辉光，可连续处理宽幅面的产品。

     2、射频均匀辉光等离子体，温度低，等离子体为纯中性，没有电位差，对于带有微电路及电子元件

       的产品没有任何损害 。

     3、采用常压下产生均匀辉光等离子体的方式，结构简单，可以进行大宽幅工件的均匀处理。   

     4、能耗低，工艺气体用量非常少，设备运行成本低。

     5、没有毒害及刺激性废气产生，不需要通风系统 。

     6、等离子系统与工作台一体化，方便融入产线。

PTL-普特勒低温大气射频辉光等离子系统的应用领域

FPD 方面

LCD, LTPS, OLED等各种基板玻璃表面清洗和连接前工艺的设备，不需要真空排气。采用均匀大气压等离子，以大气压等离子的问题点Stremer或者Arc的产生为准则阻断，基板上无损坏的表面清洗工艺。另外多元电极和原有大气压等离子技术相比，扩张性比较容易，所以从首代较小的基板开始到第十代3000mm扩大的大型基板都可以使用。

TSP 方面

触摸屏的主要工艺的清洗，提高OCA/OCR，压层，ACF，AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力，为去除气泡/异物，通过多种大气压等离子形态的运用，可以将各种玻璃，薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损坏进行处理。

半导体 方面

半导体成型工艺，刻模工艺&焊接工艺，焊球连接&安装工艺的广泛使用可以提高芯片和环氧间的粘结力，和引线框架的安装和粘接力，板材和焊球之间的粘结力。防止半导体特性上的电气损坏或者容易发生的静电问题 ，可以采用多元系统技术。另外，因为可以根据硅片的大小制造大气压等离子，无论多小的等离子都可以适用。

    

                 PTL 科 技 引 领 工 艺 变 革